HMDS基片预处置软件系统-涡流表层的镀膜机

一·应用领域
HMDS基片预处理系统主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、kaiyun全站网页版登录APP下载石、晶圆等材料  ，为基片在涂胶前改善表面活性  ，增加光刻胶与基底的粘附力的专用设备  ，也可用于晶片其它工艺的清洗  ，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及 。

二. 满足标准
1、GB/T 29251-2012进口真空晾干箱
2、GB/T 11164-2011真空镀膜设备通用技术条件
3、JB/T 6922-2015  真空蒸发镀膜设备
4、SJ/T 11185-1998 蒸发镀膜设备通用规范
5、SJ/T 31083-2016 真空镀膜设备完好要求和检查评定方法

三. 应用背景
在半导体（芯片/集成电路）生产工艺中  ，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节  ，涂胶质量直接影响到光刻的质量  ，涂胶工艺也显得尤为重要 。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的  ，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的  ，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差  ，尤其是正胶  ，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处  ，容易造成漂条、浮胶  ，等现象  ，导致光刻图形转移的失败  ，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀 。通过HMDS预处理系统预处理后  ，使基片表面涂布一层硅氧烷为主体的化合物  ，可以完全改善以上各种状况  ，从而大大提高了产品质量  ，降低次品率 。

四. 工作原理
设备为PLC工控全自动运行  ，通过高温烘烤基片  ，去除其表面的水分  ，充入HMDS（六甲基二硅氮烷C6H19NSi2）气体  ，在高温作用下  ，基片表面和HMDS充分融合反应  ，生成以硅氧烷为主体的化合物  ，使基片表面由亲水变为疏水  ，其疏水基可很好地与光刻胶结合  ，起着偶联剂的作用 。

五. 使用流程
启动真空泵使腔体内达到设定真空值  ，待腔内真空度达到某一高真空后  ，开始冲入氮气  ，然后再进行真空操作  ，再次充入氮气  ，经过反复真空充氮  ，可提高箱体内洁净度  ，开始保持一段时间  ，使硅片充分受热  ，减少硅片表面的水分  ，然后再次开始抽真空  ，冲入HMDS气体  ，在达到设定时间后停止充入  ，进入保持阶段  ，使硅片充分与HMDS反应 。当保持时间达到设定值后  ，再次开始抽真空  ，冲入氮气  ，完成整个作业过程 。

六．科技运作

HMDS基片预净化处理系统-真空系统表层的镀膜机

七·产品亮点
1、控制采用PLC工控自动化系统  ，人机界面采用触摸屏  ，具有可靠性高  ，操作方便、直观等特点.
2、超大观测窗  ，外层采用透光度99%的kaiyun全站网页版登录APP下载板  ，内层采用高强度钢化玻璃  ，全程可视化监测 。
3、内胆采用防腐防酸碱不锈钢  ，四角圆弧设计  ，易清洁 。
4、去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成  ，无需转移  ，有效规避HMDS（六甲基二硅氮烷C6H19NSi2）泄露的危险 。
5、处理更加均匀 。由于它是以蒸汽的形式涂布到基片表面上  ，所以比液态涂布更均匀 。
6、效率高 。液态涂布是单片操作  ，而本系统一次可以处理多达4~20盒的晶片 。
7、更加节省药液 。以蒸汽的形式涂布到晶片表面上  ，一次可以处理多达4~20盒的晶片  ，更加节省药液； 
8、更加kaiyun全站网页版登录APP下载和安全  ，HMDS是有毒化学药品  ，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等  ，由于整个过程是在密闭的kaiyun全站网页版登录APP下载下完成的  ，所以人接触不到药液及其蒸汽  ，也就更加安全  ，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机  ，降低对kaiyun全站网页版登录APP下载的污染 。

                             
 
八.安全保护
1、超温报警   2、过流过载保护    3、快速熔断器    4、接地保护    5、缺相保护    6、漏电保护器    

九· 特别注意
1、HMDS基片预处理系统测试条件：空载、无强磁、无震动、kaiyun全站网页版登录APP下载温度20℃、kaiyun全站网页版登录APP下载相对湿度50%RH 。
2、本公司可根据客户不同需要  ，设计  ，制造各种相关温度、湿度、真空度、洁净度、气体浓度等参数的箱体设备 。