（1）化学干扰

耐腐蚀影响是原子结构溶解光谱图进行分析中不时找到的 。引发耐腐蚀影响的重要理由是被测营养原素成型相对稳定或难熔的金属氧化物物不会基本离解弄出来引起  。它又可以分为阳铝正阴阴铁离子型影响和阴铝正阴阴铁离子型影响 。在阳铝正阴阴铁离子型影响中  ，有更大那部门是属被测营养原素与影响铝正阴阴铁离子型成型的难熔混多晶体  ，易与被测营养原素成型不容易挥发物的交织金属氧化物物  ，使溶解有效降低 。

除掉技术：

①选定应该氧电子层化方式方法 。改善氧电子层化室内温度  ，导致不解离的单质转换；主要采用保存性强的火炎与石墨炉氧电子层化法  ，导致不解离的氧化的物保存、转换 。

②成为放剂  ，与打扰成分转成更准定无机化合物使待测成分散出了  。如聚磷酸盐打扰Ca  ，加盟La或Sr时  ，可释释放来出Ca 。

③加如维护剂  ，使待测重属性不与扰乱重属性确立难挥发掉类化合物  ，使待测重属性被维护起  。维护剂很多是协调一致剂 。

④加入到基体改善剂 。石墨炉分子化法  ，在制样中放入到基体改善剂  ，使其在缺水或灰化周期与制样情况化学式變化  ，其的结果将会加大基体的发挥物性或该变被测要素的发挥物性  ，以削除干拢 。

⑤耐腐蚀分开法 。当之内方式 都难以清理耐腐蚀骚扰时  ，既然采用了耐腐蚀方式 将待测因素与骚扰因素分开 。通用的耐腐蚀分开方式 有容剂提取、化合物传递和乳浊液分开等 。

（2）物理上的骚扰

当溶剂的物理上的的性质(消费黏性、的表面弹力等)發生变动规律时  ，吸取到悬浊液的流速和做雾化率也發生变动规律进而应响消化吸收的強度 。要应对电学打扰使用希释试液或在规则悬浊液内添加与试液质同基体的依据或使用规则添加法 。

（3）电离干扰

当烈火体温可以高时  ，比较适中氧原子团有了网上而变身带正电的铁离子  ，使烈火中的比较适中氧原子团数量英文正在逐步变大  ，诱发检验敏感度减低  ，任务弧度向吸光度坐标系方位微弯 。类似这些現象有着于碱金属质材料和碱土金属质材料等电离势较低的稀有元素 。为了能够去除电离扰乱一边面有效抑制烈火的体温(分为富燃烈火)  ，另一类方位在标溶剂和产品的样品溶波中放入过量最易电离的种营养元素  ，如钾、钠、铷、铯  ，以能够抑制被测种营养元素的电离 。

（4）光谱仪扰乱

它是可能点光照、备样或实验仪器使有的不必须 的福射光被校正器校正所促使的 。它能使迟钝度消减  ，任务弧线可以弯曲的  ，也会促使法测结杲偏高等教育 。普通采取偏窄的光谱图通带、提高了点光照的散发刚度、选定 其它的的浅析线  ，事先提取干涉物等办法去清理 。

（5）底色电磁干扰

下面特指的背静干涉大部分是背静消化率的作用 。它例如光散射、团伙消化率的作用和火花消化率的作用 。可所采用临近非消化率的作用线或临近低灵巧度的消化率的作用线(与数据分析线悬殊在10nm内)不断点光源(如氘灯、碘钨灯)塞曼定律和自吸等措施对其进行标定 。焰火汲取可以选择调零的具体方法迸行标定 。