Orbitrap Fusion Lumos Tribrid三一体质谱仪的一般空间结构还包括亚铁铝离子源、亚铁铝离子电子光学功率器件、产品品质剖析仪和测量器 。接下去来给用户 介紹一些每次要素的共同点和意义 。

铝离子源

联接到LC的正离子源是电离层光电探测器离（API） 。API源应用于LC和MS中间的标准接口  ，属于以内电离技术水平：加水电补水喷雾电离（H-ESI）  ，大方压物理化学电离（APCI）和典雅压光电公司离（APPI） 。除去API化合物源外  ，在電動化合物漏斗后方的API铝阳离子源接口中另外还有第一个铝阳离子源（RIS） 。

铁离子光学材料集成电路芯片

阴亚铁离子电子光学电子元件将气质联用原辅料阴亚铁离子聚焦点并加速度加入品质探讨仪 。它包涵MP00化合物光学玻璃配件、MP0阴阳离子光学材料电子元件、MP1阴阳离子光学元件电子元件、弯曲成规则化阱（C型阱）、亚铁离子路由多极（IRM）、MP3铝离子光纤激光切割机的器材和DC摆动电压降 。MP00铝离子光电元器元器有MP00 RF透镜和L0透镜  ，地处API源主板接口和MP0正离子光电电子元器件之中 。MP0铁离子光学元件模式  ，也被称为有源束波导（ABG）  ，十年后自MP00阴阳铁离子光学仪器体统的阴阳铁离子沿机构轴借助90度弧度文件传输到四极 。90度弧光可借助阻止一般的中性元素和飞速团簇迈入四极杆来减轻燥声 。MP1化合物光学玻璃元件做为化合物文件传输的设备  ，用MS向棒给予频射（RF）的电压以行成电场强度  ，正沿四极杆的轴引流阴阳化合物  ，关键在于将阴阳化合物从四极杆传送数据到C阱 。开启C阱后  ，阳离子经过与惰性气味相撞气味相撞而耗尽其电能  ，并集中在C阱的机构轴上 。IRM其中包含某个配置在轻金属管径的多极接管  ，可以直接指向C阱 。将电势均值产生到多极管以迅速的分离出来阴离子 。MP3化合物光学薄膜电子元件都可以借助将频射电流电压加入的到杆上的的方式把化合物从IRM传递到双压LIT  ，以形成沿多极轴诱导铁离子的静电场 。

质介绍仪

Orbitrap Fusion Lumos Tribrid三双效质谱仪收录三大产品质量分析一下仪  ，四极杆、Orbitrap和LIT  。

四极重量深入检测仪（Q1）包函四种圆杆 。MS向杆加入的RF额定电压和DC倾斜电阻值 。当将可变气门正时增长幅度的RF和DC端电压加入的到能行成静磁场的四极杆时  ，静磁场能使存在目标m/z的亚铁铁离子形成平衡的振动  ，而对大多数其余亚铁铁离子形成不平衡的振动 。即  ，Q1当做高质量滤过器  ，使全选的化合物也可以在杆 。四极杆仅在增加RF电阻时用到铝离子互传装置 。

轴等势面的Orbitrap质理讲解仪主要包括一款纺锤状的学校参比电级  ，该学校参比电级被一副钟形的外面参比电级着眼于 。动作的正阴离子已经被电磁干扰场驯服 。正阴离子在Orbitrap内由消除静电场  ，使得它们的以更复杂的回旋形健身 。这样振动的径向食用量能够 借助电级的两半论文检测为镜象感应功率 。运行傅里叶改变将形象感应功率变换为质谱图  。

LIT效果研究分析器是双第一单元二维LIT产品质量定性分析器  ，由前移转透镜（TL1）、超高压LIT池、重点转意透镜（TL2）、舒张压LIT池和后变动画面（TL3）組成 。质量水平具体分析器單元企业内部是精细加工生产和精确性分散对齐的双弧线杆的方型阵列  ，该杆含有前、中、后四个部件 。

LIT的品质探讨仪实施的具体步骤包涵阴亚铁离子存放、阴亚铁离子要进行隔离、碰撞测试成脂解离（CID）和阴阳离子扫描器 。相对SIM或MSn  ，LIT产品品质浅析仪将正离子丢开波形图工作电压施加压力到X杆上  ，与此同时主AC工作电压电流斜率增加到新的内存工作电压电流  ，引射出除选中m/z阴铝离子之内的所以阴铝离子 。另  ，对MSn  ，LIT水平分折器将共振现象增进AC相电压施加压力到X杆上  ，以呈现CID 。是为了复印机扫描出阴阳离子  ，主RF电压降从血压低压高增长到高压变压器  ，也MS向X杆产生共鸣喷射式AC相电压以使得喷洒 。随着时间推移主RF电阻值的延长   ，m/z值不断增加的阴阳离子开始不可靠  ，并借助X杆中的槽涌出来 。

阴离子论文检测设备软件

Orbitrap Fusion Lumos Tribrid三一体化质谱仪存在高敏锐度和离轴铁离子监测机设计 。该监测机设计其中包含好几个转化成打拿极和一种光电子净增器 。它可出现高信噪比（S/N）  ，与论文检测到的铁阴离子量成比例  ，还都可以在正反铁阴离子运转形式相互切换桌面输出功率电性 。